镀膜一致性控制

2016-08-17技术资料

目前采用磁控溅射,热蒸发等方法在10*10mm和6*6mm 玻璃基板上镀金膜,膜厚2nm,可能因为太薄了,镀膜时间也短,一版10-30片玻璃基板,片与片之间镀膜出来从肉眼看就有明显色差,吸收光谱测试最大与最小之间有时相差30%,强度也相差很多,片与片之间相差想控制在5%以内,请问有什么好的解决办法吗?

 

这个很正常的;看你磁控溅射靶的尺寸 以及你腔体的结构,你需要找到一个比较均匀的沉积区域,然后将衬底放在这个区域。

 
这样每批次样品就少很多了

 
靶和衬底间距,衬底旋转,靶上那个罩子和靶的距离 这3个条件优化能增加均匀区域的面积。因为你长 Au薄膜, 生长速度应该很慢,所以沉积累速度问题不是很大。
如果还不能满足,那就换磁极腔体什么的了。
 
沉积时间只有20-30s,相对会不会较短?现在完全控制好厚薄差不多
 

你用的什么玻璃 镀得牢固吗 超声会不会掉

热蒸发应该好点的吧 磁控本来就那样 尤其是圆形靶材