镀膜一致性控制
2016-08-17技术资料
目前采用磁控溅射，热蒸发等方法在10*10mm和6*6mm 玻璃基板上镀金膜，膜厚2nm，可能因为太薄了，镀膜时间也短，一版10-30片玻璃基板，片与片之间镀膜出来从肉眼看就有明显色差，吸收光谱测试Zui大与Zui小之间有时相差30%,强度也相差很多，片与片之间相差想控制在5%以内，请问有什么好的解决办法吗？
这个很正常的；看你磁控溅射靶的尺寸 以及你腔体的结构，你需要找到一个比较均匀的沉积区域，然后将衬底放在这个区域。
这样每批次样品就少很多了
靶和衬底间距，衬底旋转，靶上那个罩子和靶的距离 这3个条件优化能增加均匀区域的面积。因为你长 Au薄膜， 生长速度应该很慢，所以沉积累速度问题不是很大。
如果还不能满足，那就换磁极腔体什么的了。
如果还不能满足，那就换磁极腔体什么的了。
沉积时间只有20-30s，相对会不会较短？现在完全控制好厚薄差不多
你用的什么玻璃 镀得牢固吗 超声会不会掉
热蒸发应该好点的吧 磁控本来就那样 尤其是圆形靶材